Les invitamos a revisar la publicación donde fueron partícipes la Dra. Valeria del Campo, Investigadora Principal del N2BP y el postdoc Dr. Jonathan Correa, quienes colaboraron en el artículo «Effect of thiol adsorption on the electrical resistance of copper ultrathin films», publiado en ScienceDirect.

Esperamos que se animen a leer el documento, pues ha sido publicado con acceso universal como parte del compromiso con la ciencia abierta.

Pueden acceder presionando aquí.